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設(shè)計(jì)上通孔孔徑8mil以下,孔間距密,再加上每塊板50-120萬(wàn)左右盲孔,通孔的孔偏和堵孔,鐳射孔的孔型都會(huì)影響到PCB的良率。鉆孔機(jī)臺(tái)需要按規(guī)定保養(yǎng),使用合適的鋁片和鉆咀,在新材料生產(chǎn)時(shí)工程師要確認(rèn)作業(yè)參數(shù)的合理性:疊板數(shù)、刀具參數(shù)等。鉆孔機(jī)的吸塵量需達(dá)標(biāo),鉆針有排屑空間也很關(guān)鍵。鐳射的孔型與孔徑、介厚、材料、鐳射能量等影響非常大,需要設(shè)定最佳作業(yè)條件。
2.電鍍
電鍍銅承載著電流的導(dǎo)通和信號(hào)傳輸各項(xiàng)功能,電鍍工序必須要保證銅的可靠度,表銅的均鍍能力和細(xì)膩的外觀。2mil/2mil的線路,通孔孔徑一般是6-8mil,盲孔孔徑4mil,這就要求孔銅厚度達(dá)到規(guī)格且表銅薄,水平沉銅搭配VCP線電鍍(或選擇脈沖電鍍)是客人的不錯(cuò)選擇。
使用水平沉銅工藝,智能制造及封閉式自動(dòng)化管理,生產(chǎn)周期和品質(zhì)都可以足夠保證。 VCP線可做到電鍍表銅極差R在5um,蝕刻工序不因電鍍不均再發(fā)愁,12:1內(nèi)厚徑比板,TP值 85%以上使銅球的損耗最佳。對(duì)于不同產(chǎn)品需求,可設(shè)定通盲孔并鍍,降低生產(chǎn)成本。 在電鍍生產(chǎn)中,無(wú)顆粒的外觀要求也對(duì)2mil/2mil線良率影響很大。
3.影像轉(zhuǎn)移和蝕刻
由于2mil/2mil線路細(xì)密,在影像轉(zhuǎn)移過(guò)程需要有精良的對(duì)位精度和優(yōu)良的解析能力,干膜附著力,蝕刻需有均勻蝕刻等要求。行業(yè)內(nèi)均推薦LDI爆光,使用1mil的干膜,有些板廠客戶已引進(jìn)真空蝕刻機(jī)加二流體進(jìn)行蝕刻。
對(duì)比表如下: